一、設備簡介

1、應用范圍

晶圓幾何形貌測量及參數自動檢測機使用高精度高速光譜共焦雙探頭對射傳感器實現晶圓的非接觸式測量，結合高精度運動模組及晶圓機械手可實現晶圓形貌的亞微米級精度的測量，該系統適用于晶圓多種材質的晶圓，包括藍寶石、GaAs、GaN、SiC 以及 Si 等；可以實現的尺寸與結構測量內容包括：包括 TTV, Bow, Warp, Thickness， TIR, Sag, LTV (Fullmap 測試)。

2、檢測原理

晶圓幾何形貌測量及參數自動檢測機設備系統白色光源用于照亮零件表面。如圖所示，光通過光纖從控制單元傳輸到光學傳感器，該傳感器根據波長將光分為不同的焦距。根據反射光的波長，進行納米級高精度距離測量。光學傳感器性能決定測量范圍。由于探頭的高數值孔徑和光學傳感器的動態范圍，可以在多種材料上進行測量。檢測原理如圖 1-1 所示。通過將上下探頭間的標準塊進行手次厚度校準后，就可以進行厚度測量。

3、光譜共焦測量原理

二、設備規格

1、整體基本結構

測控系統的硬件由高精度 X-Y 運動平臺、晶圓機械手、數據獲取與檢測模組、檢測控制系統以及自動上下料系統組成。

PLS-F1000設備外觀圖

2、基本技術規格說明：

設備基本技術規格

3、設備性能指標

以下為設備的主要性能參數與指標：

設備產能指標

檢測關鍵指標參數如下：

設備關鍵參數指標

軟件系統功能

測控系統安裝在 Windows 系統的工業計算機上，并配置磚用控制軟件。測控系統軟件主要由系統控制模塊（包含定位、校準及自動上下料及分選）、晶圓關鍵尺寸測量模塊和數據處理與輸出模塊三部分組成。分為開發者模式與操作工簡易操作模式兩種。易于現場操作和數據結果獲取。可以根據需求設定報警與分選特定方式。

系統功能設計